制作集成电路的压印平版印刷术

【类型】期刊

【作者】牛玉兰 

【关键词】 甲基丙烯酸甲醋 清晰度 特征尺寸 聚合物 半导体集成电路 抗蚀剂 平版印刷术 电子束平版印刷术 高生产率 压印

【刊名】广东印刷

【出版日期】1997-01-01

【ISSN】1005-7463

【页码】15

【期号】第2期

【作者单位】沈阳市辽中印刷总厂

【摘要】为适应半导体集成电路和电子仪器、光电子仪器和磁性纳米级仪器的商品化,开发低成本、高生产率的具有低于50nm线宽清晰度的平版印刷术是十分必要的。目前正在开发的扫描电子束平版印刷术,已用实例证明能达到10nm清晰度,它是以点挨点的形式构成图形,其缺陷是生产率太低,还不适于低于50nm结构的批量生产;而另一项技术,X射线平版印刷术,可以实现20nm清晰度,生产率也高,但它的掩模技术和曝光系统颇为复杂和价格昂贵。此外,以扫描近侧探针为基础的平版印刷术已实现了10nm清