应用无掩膜印刷术埋嵌微型聚合物厚膜电阻

【类型】期刊

【作者】何为 崔浩 张宣东 徐景浩 刘松伦 何波 

【关键词】 埋嵌电阻 聚合物厚膜 无掩膜印刷

【刊名】印制电路信息

【出版日期】2007-01-01

【ISSN】1009-0096

【页码】33-37,44

【期号】第5期

【作者单位】电子科技大学应用化学系　　四川成都；珠海元盛电子科技有限公司技术中心　　四川成都；珠海元盛电子科技有限公司技术中心　　广东珠海；

【卷号】第15卷

【摘要】Optomec公司开发了一种名为M3DTM的新型印刷技术,用于沉积高精度PTF(Polymer Thick Film)电阻。这种新方法生产出的电阻,面积小到0.05mm2,阻值范围达到100Ω-10000Ω,阻值公差能够保持在10%以内。M3DTM技术可以直接利用CAD文件决定电阻的位置以及阻值大小,而不需要制作掩膜模版,也不需要事后对阻值进行微调,是一种印刷埋嵌电阻的高性价比解决方案。

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