21世纪海上丝绸之路（海南）专题库
全部
图书
报纸
期刊
图片
视频
新闻
学位论文
会议论文
音频
-
应用无掩膜印刷术埋嵌微型聚合物厚膜电阻
-
作者：
何为 崔浩 张宣东 徐景浩 刘松伦 何波 来源：印制电路信息 年份：2007 文献类型 ：期刊 关键词： 埋嵌电阻 聚合物厚膜 无掩膜印刷
-
描述：Optomec公司开发了一种名为M3DTM的新型印刷技术,用于沉积高精度PTF(Polymer Thick Film)电阻。这种新方法生产出的电阻,面积小到0.05mm2,阻值范围达到100Ω-10000Ω,阻值公差能够保持在10%以内。M3DTM技术可以直接利用CAD文件决定电阻的位置以及阻值大小,而不需要制作掩膜模版,也不需要事后对阻值进行微调,是一种印刷埋嵌电阻的高性价比解决方案。
