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获得80nm特征尺寸的光学印刷术: 作者： 友清 来源：激光与光电子学进展 年份：2000 文献类型：期刊 关键词： 技术官员器件制作抗蚀数值孔径射式存储单元制造特征朗讯浮点 nm; 描述：前沿光学印刷术和新光致抗蚀材料的结合已能使美国朗讯技术公司和贝尔实验室的研究人员制造特征尺寸小至80nm的功能电子器件。这种称为闪烁存储单元的器件制作在硅上,含有80×160nm的一个浮点门。把光学印刷术推广到这么小的特征尺寸是全世界研究人员的主要目标,因为它最?..

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