21世纪海上丝绸之路(海南)专题库

全部图书报纸期刊图片视频新闻学位论文会议论文音频

文献类别: 选择要进行搜索的文献类别

限定年度范围：: 至

搜索结果显示条数：: 选择搜索结果显示的条数

检索结果相关分组

按文献类别分组: 期刊(2)

按栏目分组: 古海丝 (2)

按年份分组: 2000(1); 1983(1)

按来源分组: 激光与光电子学进展(2)

相关搜索词

首页>根据【来源:激光与光电子学进展】搜索到相关结果2条

获得80nm特征尺寸的光学印刷术: 作者： 友清 来源：激光与光电子学进展 年份：2000 文献类型：期刊 关键词： 技术官员器件制作抗蚀数值孔径射式存储单元制造特征朗讯浮点 nm; 描述：前沿光学印刷术和新光致抗蚀材料的结合已能使美国朗讯技术公司和贝尔实验室的研究人员制造特征尺寸小至80nm的功能电子器件。这种称为闪烁存储单元的器件制作在硅上,含有80×160nm的一个浮点门。把光学印刷术推广到这么小的特征尺寸是全世界研究人员的主要目标,因为它最?..

用准分子激光器改进半导体平版印刷术: 作者： 李汉中章介伦 来源：激光与光电子学进展 年份：1983 文献类型：期刊; 描述：国际商用机器公司圣何塞研究所的研究者在报导的实验中指出，准分子激光器发射的紫外光可能是把光学平版印刷术扩展到亚微米区域的关键。研究者利用接触掩蔽技术，在几十分之一亳微秒的曝光时间内,在抗烛剂上制成0.5微米的线。

上页 1 下页